WNQFHDS系列三轴超精密气浮运动台

背景介绍
随着半导体行业的不断发展，相应的加工检测设备的性能提高，我司在运动控制上有着丰富的定位经验，推出了一款平面式H形双轴超气浮运动台。WNQFHDS采用有限元分析优化的碳化硅陶瓷结构和气浮轴承补偿设计技术，提高精度的同时，也提供了动态性能。广泛应用于半导体加工、检测，微纳加工、纳米级飞切抛光加工及高速扫描等行业。

超精度设计
WNQFHDS结构采用先进的碳化硅陶瓷设计，比铝合金气浮导轨性能约高5倍，热膨胀系数约低5倍。用此材料及结构设计提升了动态跟踪误差，高速响应频率及位置稳定性，速度达到1m/s，加速度可达4g。利用多年的气浮制造经验，开发一种新的气浮轴承补偿方法，提高了刚性和负载能力，以满足高动态响应的要求，可实现快速运动和非常快的位置整定。
Z轴采用交叉滚柱导轨导向，直线电机驱动，实现纳米级位置抖动，提升系统精度性能。根据应用，WNQFHDS可用于主动或被动隔振系统，可安装旋转台，倾角台或晶圆装卸用的夹具等，整套设备可以提供焊接件底座，花岗岩基座或主动被动隔振台等。
我们精心优化管线弯曲半径，防止动作过程中线缆的拉伸影响到气浮台的性能，使用高质量的电缆，以确保无故障操作，减少停机时间。同时使设备外观更整洁，创造良好的作业环境。

非接触式直驱设计
WNQFHDS的核心是运用了先进的直线电机，采用了无铁芯设计，实现了超平稳的运动。步进轴和扫描轴使用多个电机驱动，安装位置接近于负载水平面，以提高直线度、平面度和倾角误差等，同时电机是隔热的，对于高占空比应用，电机可选水冷或气冷，尽量避免因电机发热引起的误差。